In der Halbleiterwaferfertigung ist die Lithografie ein kritischer, präzisionsgetriebener Schritt, der die Chipausbeute bestimmt. Als Kernstück der Belichtung und Abbildung im Waferherstellungsprozess umfasst die Lithografie den gesamten Arbeitsablauf – von der Beschichtung über Belichtung, Entwicklung und Ätzung bis hin zur Nassreinigung – und stellt extrem hohe Anforderungen an Reinheit, Reinheitskontrolle, elektrostatischen Schutz und chemische Beständigkeit. Mikrometergroße Staubpartikel, Spurenionenmigration und kurzzeitige elektrostatische Entladungen können direkt zu Fotolackdefekten, Fehlausrichtungen der Strukturen, Waferoxidation und Mikrokurzschlüssen in den Schaltkreisen führen, was die Ausschussquote ganzer Wafer und massive Produktionsverluste zur Folge hat. Viele Halbleiterwerkstoffe (FABs) haben Schwierigkeiten, die Ausbeute ihrer Fotolithografieprozesse zu verbessern. Selbst wenn Anlagen, Prozesse und Umgebungsbedingungen optimal sind, liegt der Engpass oft in scheinbar unbedeutenden Handschutzmaterialien. Herkömmliche Reinraumhandschuhe der Klasse 1000 oder für industrielle Anwendungen sind für die extrem hohen Anforderungen der Fotolithografie völlig ungeeignet.
Warum ist die Verwendung gewöhnlicher Reinraumhandschuhe im Lithographieverfahren strengstens verboten?
Pulverrückstände verursachen Verunreinigungen im Fotolack.
Überschüssige Schwefel- und Chloridionen korrodieren die Schaltkreise auf den Wafern.
Statische Elektrizität geriet außer Kontrolle und verursachte einen Defekt in einem Präzisions-Photolithographie-Wafer.
Abblättern und Absplittern, was zu Fremdkörperfehlern im Herstellungsprozess führt
LjieClean Klasse 100 puderfreie Nitrilhandschuhe
Suzhou Leader konzentriert sich auf den Bereich der Halbleiterwaferherstellung und geht auf die Schwachstellen im Lithographieprozess ein. Wir haben spezielle puderfreie Nitrilhandschuhe der Klasse 100 mit geringer Ausgasung entwickelt, die die Produktionsanforderungen des gesamten Waferlithographieprozesses perfekt erfüllen und daher die bevorzugten Schutzmaterialien für zahlreiche Halbleiterfabriken sowie Unternehmen im Bereich Waferverpackung und -prüfung sind.
1. Pulverfreies Verfahren auf Dichloridbasis: Keine Pulververunreinigung im Fotolithografieprozess
Durch die Anwendung eines speziell für Halbleiter entwickelten Chlorierungsverfahrens benötigt dieses Verfahren keine zusätzlichen Additive wie Talkum, Maisstärke oder Silikonöl. Es gewährleistet eine gleichmäßige Applikation, indem es Pulverpartikel und Silikonölreste, die den Fotolack verunreinigen könnten, bereits an der Quelle entfernt und somit Fremdpartikeldefekte im Fotolithografieprozess vollständig beseitigt.
2. Mehrstufiges Spülen mit Reinstwasser erzielt einen niedrigen Schwefel-, Chlor- und Ionengehalt.
Durch mehrfaches, gründliches Spülen mit hochreinem Wasser werden Rohstoffzusätze und Oberflächenrückstände entfernt. Der Gehalt an Schwefel, Chlor und löslichen Metallionen wird streng kontrolliert, was zu einem geringen Anteil nichtflüchtiger Rückstände (NVR) führt. Dadurch werden Waferoxidation, Korrosion der Beschichtung und Ätzdefekte verhindert, sodass die Handschuhe optimal für die anspruchsvollen Lithographieprozesse von 8- und 12-Zoll-Wafern geeignet sind.
3. Modifizierter ESD-Schutz im Formgehäuse zum Schutz elektrostatisch empfindlicher Wafer
Im Gegensatz zu handelsüblichen antistatischen Handschuhen mit temporärer Sprühbeschichtung nutzt Gonars eine In-Mold-Antistatikmodifizierungstechnologie auf Nitrilbasis. Dies gewährleistet einen stabilen und gleichmäßigen Oberflächenwiderstand und leitet statische Elektrizität während des gesamten Prozesses kontinuierlich ab. So wird eine statische Aufladung verhindert, die zum Durchschlagen des Fotolacks und zur Beschädigung von Präzisions-Wafer-Schaltungen führen könnte. Das Verfahren eignet sich für zentrale Lithographieschritte wie Belichtung und Entwicklung.
4. Flexibel und passgenau, geeignet für Präzisionsarbeiten im Mikrometerbereich
Das Handschuhmaterial ist flexibel und passt sich den Konturen der Hand an. Dank der rutschfesten Textur an den Fingerspitzen ist der Handschuh leicht und nicht sperrig und eignet sich daher ideal für Präzisionsarbeiten wie die Handhabung von Fotolithografie-Wafern, die Geräteinspektion und die Feinprüfung. Er ermöglicht uneingeschränkte Bewegungsfreiheit und verhindert ein Abrutschen, wodurch Beschädigungen durch versehentliche Stöße bei manuellen Arbeiten effektiv minimiert werden. Darüber hinaus ist er beständig gegen Fotolithografie-Lösungsmittel sowie schwache Säuren und Laugen und bleibt auch bei längerem Gebrauch langlebig, ohne zu altern oder zu reißen.
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✅ Doppellagige, vakuumversiegelte Verpackung verhindert Sekundärkontamination
Die fertigen Produkte werden während des gesamten Prozesses in einem Reinraum der Klasse 100 in doppelwandiger, vakuumversiegelter Verpackung verpackt. Dadurch sind sie während Lagerung und Transport vollständig vor Staub und Feuchtigkeit geschützt. Beim Öffnen der Verpackung tritt keine Sekundärkontamination auf, sodass die Produkte sofort in Reinräumen der Klasse 100 für die Lithografie eingesetzt werden können.
Veröffentlichungsdatum: 23. Juli 2026